MICROAUTOMATION 2066 Mask/Substrate Cleaner - For Parts Only
Mask/Substrate Cleaner - For Parts Only
Washers are specialized cleaning systems used in semiconductor processing to ensure contamination-free wafer surfaces. These machines offer precision cleaning capabilities with features like megasonic frequencies for thorough decontamination and rinse dry cycles for optimal moisture removal.
Mask/Substrate Cleaner - For Parts Only
Ehemalige Chemie-Tankbelegung:
Tank 1: EKC
Tank 2: P1331
Tank 3 und Tank 4: DMF
Tank 5: IPA
Datenblätter siehe Anhang.
Anlagenfehler:
Die Filterkerze vom Tank 4 ist undicht.
Die Tankheizung 1 vom Tank 4 ist defekt und abgeklemmt.
Die Tankheizung 3 vom Tank 4 ist defekt und abgeklemmt.
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